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        等離子體-材料表面
        
                    
                    
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          TOF-qSIMS飛行時間二次離子質譜儀
          
	    
          Hiden TOF-qSIMS飛行時間二次離子質譜工作站設計用于多種材料的表面分析和深度剖析應用，包括聚合物，藥物，超導體，半導體，合金，光學和功能涂層以及電介質，檢測限低于1ppm。
          
        
          時間：2023-03-13型號：TOF-qSIMS瀏覽量：5685
          
	    
	
          

          
            
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